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　　专利摘要显示，本实用新型公开了一种连续式滚筒反应釜，包括反应釜，所述反应釜的下端设置有底座，所述底座的上端外表面设置有滚动组件，且所述滚动组件位于反应釜与底座之间，所述反应釜的一侧外表面设置有第一料管，所述反应釜的另一侧外表面设置有第二料管，所述第一料管与第二料管的中部均设置有单向阀，所述第一料管的一侧外表面设置有上料机构，所述上料机构包括导管、进料管、支撑架、基座、斜坡板与密封轴承，所述导管位于第一料管的一侧，所述密封轴承位于导管与第一料管之间。本实用新型所述的一种连续式滚筒反应釜，能够方便对导管进行限位，便于通过斜坡板对物料进行导向，方便进行上料，带来更好的使用前景。